半導體清洗超純水設備制備工藝

    1、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象

（≥15MΩ.CM）（傳統工藝）

    2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（

≥16MΩ.CM）（工藝）

    3、預處理→一級反滲透→加藥機（PH調節）→中間水箱→第二級反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌

器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥17MΩ.CM）（工藝）

    半導體芯片清洗超純水設備出水水質*符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業部電子級水質技術標準（18MΩ.cm、15MΩ.cm、

10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準）、我國電子工業部高純水水質試行標準、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標準

、國內外大規模集成電路水質標準。

   公司設計、制造水處理凈化設備；主營：純水設備，去離子水設備，工業高純水設備，反滲透設備，軟化水設備，膠鹽水設備，除鹽水

設備，蒸餾水設備，工業高純水機，凈水機，離子交換設備，超純水設備，電子、醫藥、化工等行業工業純水設備，江、河、湖水凈化設

備等。